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单晶金刚石氧等离子体反应离子刻蚀薄膜制备技术

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基础信息

分类: 应用技术

支撑论文: 1

别名数: 2

更新时间: 2026/05/25 21:40

版本占位

当前版本: SQLite v1 (qwen3-max)

来源: sqlite

领域: 物理学与光学 / 量子光学

子领域: 固态量子光学 / 金刚石氮-空位色心与光子晶体腔耦合技术

在单晶金刚石中采用氧等离子体反应离子刻蚀（RIE）工艺，制备约200 nm厚的悬浮金刚石薄膜，作为光子晶体腔结构的基础加工步骤。

Aliases

别名与线索

Oxygen Plasma Reactive Ion Etching for Monocrystalline Diamond Membrane Fabricationreactive ion etching (RIE) in an oxygen plasma

Supporting Papers

Coupling of Nitrogen-Vacancy Centers to Photonic Crystal Cavities in Monocrystalline Diamond

10.1103/physrevlett.109.033604

Revision Surface

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